ເອທິລຊີແລນ

ການແນະນໍາອາຍແກັສ

Ethylsilane ແມ່ນສານປະກອບອະນົງຄະທາດທີ່ມີສູດເຄມີ Si2H6. ມັນເປັນອາຍແກັສທີ່ບໍ່ມີສີ, ໂປ່ງໃສ, ແລະເປັນພິດທີ່ມີກິ່ນທີ່ບໍ່ຫນ້າພໍໃຈແລະລະຄາຍເຄືອງໃນອຸນຫະພູມຫ້ອງແລະຄວາມກົດດັນ. ມັນ​ມີ​ຄຸນ​ສົມ​ບັດ​ທາງ​ເຄ​ມີ​ຄ້າຍ​ຄື​ກັນ​ກັບ silane​, ແຕ່ reactivity ຂອງ​ມັນ​ແມ່ນ​ເຂັ້ມ​ແຂງ​ກ​່​ວາ silane​. ມັນບໍ່ຄົງທີ່ຫຼາຍກ່ວາ silane ແລະຊ້າໆ decomposes ເຂົ້າໄປໃນ silane ແລະ hydrogen ໃນອຸນຫະພູມຫ້ອງ. Decompose ເຂົ້າໄປໃນ SiH4, SinHm, H2 ທີ່ 300-500 ℃, ແລະຍັງ decompose ພາຍໃຕ້ແສງສະຫວ່າງ. ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນໃຊ້ໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ທໍ່ rotary photosensitive, ຮູບເງົາຊິລິຄອນ amorphous, ການຂະຫຍາຍຕົວຂອງ epitaxial, ຮູບເງົາ oxide, ຮູບເງົາ nitride, ການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ, ແລະດ້ານອື່ນໆ.

ຄຸນສົມບັດພື້ນຖານ

Ethylsilane ເປັນຂອງແຫຼວໂປ່ງໃສທີ່ບໍ່ມີສີທີ່ເຮັດໃຫ້ເກີດການເຜົາໄຫມ້ໂດຍທໍາມະຊາດໃນອາກາດ, ມີຈຸດຕິດໄຟຕ່ໍາກວ່າອຸນຫະພູມຫ້ອງ. ເມື່ອມັນພົບກັບອາກາດ, ມັນທັນທີທີ່ເຜົາໄຫມ້ແລະທໍາລາຍເຂົ້າໄປໃນ SiH4 ແລະ H2. ລະດັບຄວາມເຂັ້ມຂຸ້ນຂອງການເຜົາໃຫມ້ແມ່ນກວ້າງ, ແລະເມື່ອຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນສູງກວ່າ 0.2%, ແປວໄຟຖືກປ່ອຍອອກມາໃນລະຫວ່າງການເຜົາໃຫມ້; ເມື່ອຄວາມເຂັ້ມຂົ້ນຕໍ່າກວ່າ 0.2%, ປະຕິກິລິຍາຜຸພັງແມ່ນດໍາເນີນເພື່ອສ້າງ SiO2 ສີຂາວ. ການເຜົາໃຫມ້ລະເບີດໃນອາຍແກັສ chlorine. ປະຕິກິລິຍາລະເບີດດ້ວຍອາຍແກັສ halogen, ແຕ່ຖ້າຢູ່ໃນອຸນຫະພູມຕ່ໍາ, ດໍາເນີນການ halogenation ປານກາງ. ຖ້າຕິດຕໍ່ກັບ SF6, ມັນຈະລະເບີດ. ປະຕິກິລິຍາຮຸນແຮງກັບຄາບອນ tetrachloride ແລະ chloroform. ປະຕິກິລິຍາ ແລະ ຍ່ອຍສະຫຼາຍດ້ວຍໂລຫະທີ່ເປັນດ່າງ ແລະ ໂລຫະປະສົມ mercury ເພື່ອຜະລິດ silane ແລະ hydrogen. ປະຕິກິລິຍາກັບໂພແທດຊຽມຄາສຕິກເພື່ອປົດປ່ອຍ H2. ມັນບໍ່ປະຕິກິລິຍາກັບນ້ໍາບໍລິສຸດແລະອາຊິດ, ແຕ່ reacts ກັບ alkali ເພື່ອຜະລິດ silicates ແລະ hydrogen. ເຖິງແມ່ນວ່າການມີປະລິມານຕາມຮອຍຂອງ alkali ທີ່ລະລາຍຈາກແກ້ວສາມາດເຮັດໃຫ້ເກີດ hydrolysis ຂອງ ethane. ໃນ​ທີ່​ປະ​ທັບ​ຂອງ KH ຫຼື LiCl impurities​, ມັນ​ຊ້າ decompose ໃນ​ອຸນ​ຫະ​ພູມ​ຫ້ອງ​.

Si2H6- → SiH4+(SiH2) x

Ethylsilane ແມ່ນລະລາຍໃນຄາບອນ disulfide, ethyl alcohol, benzene, ແລະ ethyl silicic acid. ມັນ corrodes ຢາງພາລາ, ມັນເບີ, lubricants, ນໍາ, ແລະອື່ນໆ, ແຕ່ບໍ່ corrode ໂລຫະສ່ວນໃຫຍ່.

ການນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍ

1. ນໍາໃຊ້ໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ທໍ່ rotary photosensitive, ຮູບເງົາ silicon amorphous, ການຂະຫຍາຍຕົວ epitaxial, ຮູບເງົາ oxide, ຮູບເງົາ nitride, ການປ່ອຍ vapor ສານເຄມີ, ແລະຂົງເຂດອື່ນໆ. ໃນການຜະລິດຂອງຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ອັດຕາເງິນຝາກຂອງ ethylene silane ໃນ wafers ຊິລິໂຄນ amorphous ແມ່ນໄວກ່ວາຂອງ silane, ແລະອຸນຫະພູມສາມາດຫຼຸດລົງໂດຍ 200-300 ℃. ໃນ ion implantation, ການນໍາໃຊ້ ethane ເປັນແຫຼ່ງ ion ມີແນວໂນ້ມທີ່ຈະ glow ແລະມີ beam ທີ່ເຂັ້ມແຂງໃນປະຈຸບັນ, ຜົນໄດ້ຮັບຢ່າງຫຼວງຫຼາຍດີກວ່າການນໍາໃຊ້ອາຍແກັສອື່ນໆເປັນແຫຼ່ງ ion.

2. ໃນເທກໂນໂລຍີ semiconductor, ມັນຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບຂະບວນການ epitaxial ແລະການແຜ່ກະຈາຍ, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບ drums photosensitive ໃຊ້ໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນແລະການຖ່າຍຮູບເອເລັກໂຕຣນິກ.